變傾角移相斜入射動態(tài)干涉儀
作者：劉致遠(yuǎn); 陳磊; 朱文華; 丁煜; 馬云; 鄭東暉 南京理工大學(xué)電子工程與光電技術(shù)學(xué)院; 江蘇南京210094; 南京理工大學(xué)先進(jìn)發(fā)射協(xié)同創(chuàng)新中心; 江蘇南京210094
摘要：為了快速獲取不平整度達(dá)數(shù)微米量級的光學(xué)表面面形分布,提出一種基于變傾角移相的斜入射動態(tài)干涉儀方案。基于邁克耳遜干涉儀主光路系統(tǒng),采用2×2點(diǎn)光源陣列,通過精確控制各點(diǎn)光源在干涉腔的入射傾角,引入等間隔移相,結(jié)合透鏡陣列實(shí)現(xiàn)空間分光,在單個CCD上同時采集四幅移相干涉圖,實(shí)現(xiàn)動態(tài)測量。在68°斜入射角下測量了口徑35 mm硅片的平整度,均方根(RMS)值為1.631μm,峰谷(PV)值為9.082μm。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,將變傾角同步移相技術(shù)引入斜入射干涉系統(tǒng),可以克服環(huán)境震動的干擾,在保證高精度的前提下拓寬了可見光干涉儀的測量范圍。
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光電工程雜志
光電工程雜志， 月刊，本刊重視學(xué)術(shù)導(dǎo)向，堅(jiān)持科學(xué)性、學(xué)術(shù)性、先進(jìn)性、創(chuàng)新性，刊載內(nèi)容涉及的欄目：綜述、科研論文等。于1974年經(jīng)新聞總署批準(zhǔn)的正規(guī)刊物。
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