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  • 首頁 > 期刊 > 紅外與毫米波學(xué)報 > 厚度與帶隙可調(diào)、原子層沉積的超薄五氧化二釩納米晶薄膜 【正文】

    厚度與帶隙可調(diào)、原子層沉積的超薄五氧化二釩納米晶薄膜

    作者:張?zhí)鞂? 王書霞; 黃田田; 魏威; 陳鑫; 戴寧 中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所紅外物理國家重點實驗室; 上海200083; 中國科學(xué)院大學(xué); 北京100049

    摘要:利用原子層沉積方法制備V2O5納米片晶薄膜.薄膜厚度可以被精確控制,并對納米晶V2O5薄膜的結(jié)構(gòu)形貌、光學(xué)帶隙和拉曼振動有顯著影響.原子層沉積過程中V2O5薄膜生長的兩個階段導(dǎo)致薄膜具有兩個光學(xué)帶隙,這將有助于理解超薄薄膜生長與功能應(yīng)用.

    注:因版權(quán)方要求,不能公開全文,如需全文,請咨詢雜志社。

    紅外與毫米波學(xué)報雜志

    紅外與毫米波學(xué)報雜志, 雙月刊,本刊重視學(xué)術(shù)導(dǎo)向,堅持科學(xué)性、學(xué)術(shù)性、先進性、創(chuàng)新性,刊載內(nèi)容涉及的欄目:研究論文、研究簡報等。于1982年經(jīng)新聞總署批準的正規(guī)刊物。

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