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  • Ieee Photonics Technology Letters

    • ISSN:1041-1135
    • ESSN:1941-0174
    • 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)稱:IEEE PHOTONIC TECH L
    • 出版地區(qū):UNITED STATES
    • 出版周期:Monthly
    • 研究方向:工程技術(shù) - 工程:電子與電氣
    • 出版年份:1989
    • 語(yǔ)言:English
    • 是否OA:未開(kāi)放
    • 學(xué)科領(lǐng)域

      工程技術(shù)
    • 中科院分區(qū)

      3區(qū)
    • JCR分區(qū)

      Q2
    • IF影響因子

      2.3
    • 是否預(yù)警

    期刊簡(jiǎn)介

    Journal Title:Ieee Photonics Technology Letters

    IEEE Photonics Technology Letters addresses all aspects of the IEEE Photonics Society Constitutional Field of Interest with emphasis on photonic/lightwave components and applications, laser physics and systems and laser/electro-optics technology. Examples of subject areas for the above areas of concentration are integrated optic and optoelectronic devices, high-power laser arrays (e.g. diode, CO2), free electron lasers, solid, state lasers, laser materials' interactions and femtosecond laser techniques. The letters journal publishes engineering, applied physics and physics oriented papers. Emphasis is on rapid publication of timely manuscripts. A goal is to provide a focal point of quality engineering-oriented papers in the electro-optics field not found in other rapid-publication journals.

    中文簡(jiǎn)介

    IEEE 光子技術(shù)快報(bào)涉及 IEEE 光子學(xué)會(huì)憲法領(lǐng)域的所有方面,重點(diǎn)關(guān)注光子/光波組件和應(yīng)用、激光物理和系統(tǒng)以及激光/電光技術(shù)。上述重點(diǎn)領(lǐng)域的主題領(lǐng)域示例包括集成光學(xué)和光電子器件、高功率激光陣列(例如二極管、CO2)、自由電子激光器、固態(tài)激光器、激光材料相互作用和飛秒激光技術(shù)。該快報(bào)期刊發(fā)表工程、應(yīng)用物理和物理導(dǎo)向論文。重點(diǎn)是及時(shí)發(fā)表手稿。目標(biāo)是提供其他快速出版期刊所沒(méi)有的電光領(lǐng)域高質(zhì)量工程導(dǎo)向論文的焦點(diǎn)。

    期刊點(diǎn)評(píng)

    Ieee Photonics Technology Letters創(chuàng)刊于1989年,由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商出版,收稿方向涵蓋工程技術(shù) - 工程:電子與電氣全領(lǐng)域,此刊是中等級(jí)別的SCI期刊,所以過(guò)審相對(duì)來(lái)講不是特別難,但是該刊專業(yè)認(rèn)可度不錯(cuò),仍然是一本值得選擇的SCI期刊 。平均審稿速度 約2.0個(gè)月 ,影響因子指數(shù)2.3,該期刊近期沒(méi)有被列入國(guó)際期刊預(yù)警名單,廣大學(xué)者值得一試。

    中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023年12月升級(jí)版)

    大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

    名詞解釋:
    中科院分區(qū)也叫中科院JCR分區(qū),基礎(chǔ)版分為13個(gè)大類學(xué)科,然后按照各類期刊影響因子分別將每個(gè)類別分為四個(gè)區(qū),影響因子5%為1區(qū),6%-20%為2區(qū),21%-50%為3區(qū),其余為4區(qū)。

    中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2022年12月升級(jí)版)

    大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

    中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月舊的升級(jí)版)

    大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

    中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月基礎(chǔ)版)

    大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 3區(qū) 4區(qū)

    中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2021年12月升級(jí)版)

    大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

    中科院分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2020年12月舊的升級(jí)版)

    大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

    WOS分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2023-2024年最新版)

    按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
    學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 175 / 352

    50.4%

    學(xué)科:OPTICS SCIE Q2 51 / 119

    57.6%

    學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 100 / 179

    44.4%

    按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
    學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 159 / 354

    55.23%

    學(xué)科:OPTICS SCIE Q2 53 / 120

    56.25%

    學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 72 / 179

    60.06%

    名詞解釋:
    WOS即Web of Science,是全球獲取學(xué)術(shù)信息的重要數(shù)據(jù)庫(kù),Web of Science包括自然科學(xué)、社會(huì)科學(xué)、藝術(shù)與人文領(lǐng)域的信息,來(lái)自全世界近9,000種最負(fù)盛名的高影響力研究期刊及12,000多種學(xué)術(shù)會(huì)議多學(xué)科內(nèi)容。給期刊分區(qū)時(shí)會(huì)按照某一個(gè)學(xué)科領(lǐng)域劃分,根據(jù)這一學(xué)科所有按照影響因子數(shù)值降序排名,然后平均分成4等份,期刊影響因子值高的就會(huì)在高分區(qū)中,最后的劃分結(jié)果分別是Q1,Q2,Q3,Q4,Q1代表質(zhì)量最高。

    CiteScore分區(qū)(數(shù)據(jù)版本:2024年最新版)

    CiteScore SJR SNIP CiteScore排名
    5 0.684 0.988
    學(xué)科 分區(qū) 排名 百分位
    大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 261 / 797

    67%

    大類:Engineering 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics Q2 75 / 224

    66%

    大類:Engineering 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q2 95 / 284

    66%

    名詞解釋:
    CiteScore:衡量期刊所發(fā)表文獻(xiàn)的平均受引用次數(shù)。
    SJR:SCImago 期刊等級(jí)衡量經(jīng)過(guò)加權(quán)后的期刊受引用次數(shù)。引用次數(shù)的加權(quán)值由施引期刊的學(xué)科領(lǐng)域和聲望 (SJR) 決定。
    SNIP:每篇文章中來(lái)源出版物的標(biāo)準(zhǔn)化影響將實(shí)際受引用情況對(duì)照期刊所屬學(xué)科領(lǐng)域中預(yù)期的受引用情況進(jìn)行衡量。

    其他數(shù)據(jù)

    是否OA開(kāi)放訪問(wèn): h-index: 年文章數(shù):
    未開(kāi)放 143 359
    Gold OA文章占比: 2021-2022最新影響因子(數(shù)據(jù)來(lái)源于搜索引擎): 開(kāi)源占比(OA被引用占比):
    16.15% 2.3 0.06...
    研究類文章占比:文章 ÷(文章 + 綜述) 期刊收錄: 中科院《國(guó)際期刊預(yù)警名單(試行)》名單:
    100.00% SCIE

    歷年IF值(影響因子):

    歷年引文指標(biāo)和發(fā)文量:

    歷年中科院JCR大類分區(qū)數(shù)據(jù):

    歷年自引數(shù)據(jù):

    發(fā)文統(tǒng)計(jì)

    2023-2024國(guó)家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計(jì):

    國(guó)家/地區(qū) 數(shù)量
    CHINA MAINLAND 699
    USA 183
    Canada 74
    GERMANY (FED REP GER) 72
    England 69
    India 69
    Japan 68
    South Korea 57
    France 46
    Italy 43

    2023-2024機(jī)構(gòu)發(fā)文量統(tǒng)計(jì):

    機(jī)構(gòu) 數(shù)量
    CHINESE ACADEMY OF SCIENCES 100
    HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE &... 54
    INDIAN INSTITUTE OF TECHNOLOGY S... 39
    SHANGHAI JIAO TONG UNIVERSITY 39
    ZHEJIANG UNIVERSITY 31
    CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE ... 29
    TSINGHUA UNIVERSITY 25
    NANJING UNIVERSITY 23
    IMEC 22
    UNIVERSITY OF ELECTRONIC SCIENCE... 22

    近年引用統(tǒng)計(jì):

    期刊名稱 數(shù)量
    OPT EXPRESS 988
    OPT LETT 720
    J LIGHTWAVE TECHNOL 557
    IEEE PHOTONIC TECH L 521
    APPL PHYS LETT 297
    APPL OPTICS 223
    IEEE J SEL TOP QUANT 153
    NAT PHOTONICS 141
    IEEE PHOTONICS J 124
    IEEE J QUANTUM ELECT 99

    近年被引用統(tǒng)計(jì):

    期刊名稱 數(shù)量
    OPT EXPRESS 1325
    J LIGHTWAVE TECHNOL 1127
    OPT COMMUN 693
    IEEE PHOTONICS J 601
    IEEE PHOTONIC TECH L 521
    OPT LETT 516
    APPL OPTICS 515
    IEEE ACCESS 401
    SENSORS-BASEL 391
    OPTIK 386

    近年文章引用統(tǒng)計(jì):

    文章名稱 數(shù)量
    On the Performance of MIMO-NOMA-... 34
    Graphene Sensor Based on Surface... 24
    Monolithic Red/Green/Blue Micro-... 20
    A VLC Smartphone Camera Based In... 20
    1.3-mu m Reflection Insensitive ... 17
    Active Matrix Monolithic LED Mic... 16
    Polarization Beam Splitter Based... 15
    Plasmonic Refractive Index Senso... 15
    Black Phosphorus: A New Platform... 14
    Toward the Integration of CV Qua... 14

    相關(guān)期刊

    同小類學(xué)科的其他優(yōu)質(zhì)期刊 影響因子 中科院分區(qū)
    Journal Of Energy Storage 8.9 2區(qū)
    Journal Of Environmental Chemical Engineering 7.4 2區(qū)
    International Journal Of Ventilation 1.1 4區(qū)
    Chemical Engineering Journal 13.3 1區(qū)
    International Journal Of Hydrogen Energy 8.1 2區(qū)
    Electronics 2.6 3區(qū)
    Complexity 1.7 4區(qū)
    Aerospace 2.1 3區(qū)
    Buildings 3.1 3區(qū)
    Separation And Purification Technology 8.1 1區(qū)

    更多問(wèn)題

    免責(zé)聲明

    若用戶需要出版服務(wù),請(qǐng)聯(lián)系出版商:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。

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