《Plasma Sources Science & Technology》雜志的收稿范圍和要求是什么？
來源：優(yōu)發(fā)表網(wǎng)整理 2024-09-18 10:51:27 1071人看過
《Plasma Sources Science & Technology》雜志收稿范圍涵蓋物理與天體物理全領(lǐng)域，此刊是該細(xì)分領(lǐng)域中屬于非常不錯(cuò)的SCI期刊，在行業(yè)細(xì)分領(lǐng)域中學(xué)術(shù)影響力較大，專業(yè)度認(rèn)可很高，所以對(duì)原創(chuàng)文章要求創(chuàng)新性較高，如果您的文章質(zhì)量很高，可以嘗試。
平均審稿速度 約6.0個(gè)月 ，影響因子指數(shù)3.3。
該期刊近期沒有被列入國際期刊預(yù)警名單，廣大學(xué)者值得一試。
具體收稿要求需聯(lián)系雜志社或者咨詢本站客服，在線客服團(tuán)隊(duì)會(huì)及時(shí)為您答疑解惑，提供針對(duì)性的建議和解決方案。
出版商聯(lián)系方式：IOP PUBLISHING LTD, DIRAC HOUSE, TEMPLE BACK, BRISTOL, ENGLAND, BS1 6BE
其他數(shù)據(jù)
| 是否OA開放訪問： | h-index： | 年文章數(shù)： |
| 未開放 | 94 | 242 |
| Gold OA文章占比： | 2021-2022最新影響因子（數(shù)據(jù)來源于搜索引擎）: | 開源占比（OA被引用占比）： |
| 26.54% | 3.3 | 0.19... |
| 研究類文章占比：文章 ÷（文章 + 綜述） | 期刊收錄： | 中科院《國際期刊預(yù)警名單（試行）》名單： |
| 99.17% | SCIE | 否 |
歷年IF值(影響因子)：
歷年引文指標(biāo)和發(fā)文量：
歷年中科院JCR大類分區(qū)數(shù)據(jù)：
歷年自引數(shù)據(jù)：
發(fā)文統(tǒng)計(jì)
2023-2024國家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計(jì)：
| 國家/地區(qū) | 數(shù)量 |
| USA | 198 |
| CHINA MAINLAND | 137 |
| GERMANY (FED REP GER) | 136 |
| France | 122 |
| Russia | 108 |
| Netherlands | 61 |
| Japan | 56 |
| Czech Republic | 53 |
| England | 40 |
| Italy | 34 |
2023-2024機(jī)構(gòu)發(fā)文量統(tǒng)計(jì)：
| 機(jī)構(gòu) | 數(shù)量 |
| CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE ... | 106 |
| RUHR UNIVERSITY BOCHUM | 73 |
| UNIVERSITE PARIS SACLAY | 69 |
| RUSSIAN ACADEMY OF SCIENCES | 63 |
| INSTITUT POLYTECHNIQUE DE PARIS | 48 |
| SORBONNE UNIVERSITE | 47 |
| EINDHOVEN UNIVERSITY OF TECHNOLO... | 45 |
| MASARYK UNIVERSITY BRNO | 33 |
| XI'AN JIAOTONG UNIVERSITY | 29 |
| HUNGARIAN ACADEMY OF SCIENCES | 27 |
近年引用統(tǒng)計(jì)：
| 期刊名稱 | 數(shù)量 |
| PLASMA SOURCES SCI T | 1576 |
| J PHYS D APPL PHYS | 1276 |
| J APPL PHYS | 702 |
| PHYS PLASMAS | 595 |
| APPL PHYS LETT | 335 |
| IEEE T PLASMA SCI | 296 |
| J CHEM PHYS | 236 |
| PHYS REV A | 227 |
| PHYS REV LETT | 189 |
| PHYS REV E | 167 |
近年被引用統(tǒng)計(jì)：
| 期刊名稱 | 數(shù)量 |
| PLASMA SOURCES SCI T | 1576 |
| J PHYS D APPL PHYS | 745 |
| PHYS PLASMAS | 733 |
| IEEE T PLASMA SCI | 427 |
| J APPL PHYS | 370 |
| PLASMA CHEM PLASMA P | 186 |
| JPN J APPL PHYS | 171 |
| PLASMA PROCESS POLYM | 165 |
| PLASMA SCI TECHNOL | 148 |
| VACUUM | 110 |
近年文章引用統(tǒng)計(jì)：
| 文章名稱 | 數(shù)量 |
| Review on experimental and theor... | 23 |
| The importance of thermal dissoc... | 20 |
| Comparison of six simulation cod... | 19 |
| The LisbOn KInetics Boltzmann so... | 17 |
| Energetic ions during plasma-enh... | 17 |
| Foundations of low-temperature p... | 17 |
| Foundations of High-Pressure The... | 16 |
| Kinetic study of low-temperature... | 16 |
| Atmospheric-pressure pulsed plas... | 15 |
| Modelling the helium plasma jet ... | 14 |
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